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在图像处理中，经常会碰到掩膜(Mask)这个词。那么这个词到底是什么意思呢？下面来简单解释一下。
1.什么是掩膜
首先我们从物理的角度来看看mask到底是什么过程。

在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

图像掩膜与其类似，用选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。
2.掩膜的用法
2.1 提取感兴趣区：用预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0；

2.2 屏蔽作用：用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计；

2.3 结构特征提取：用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩膜相似的结构特征；

2.4 特殊形状图像的制作。
3.掩膜运算的一个小实例
以图和掩膜的与运算为例：

原图中的每个像素和掩膜中的每个对应像素进行与运算。比如1 & 1 = 1；1 & 0 = 0；

比如一个3 * 3的图像与3 * 3的掩膜进行运算，得到的结果图像就是：

4.小结
1.图像中，各种位运算，比如与、或、非运算与普通的位运算类似。

2.如果用一句话总结，掩膜就是两幅图像之间进行的各种位运算操作。

刚开始涉及到图像处理的时候，在opencv等库中总会看到mask这么一个参数，非常的不理解，在查询一系列资料之后，写下它们，以供翻阅。
什么是掩膜（mask）
数字图像处理中的掩膜的概念是借鉴于PCB制版的过程，在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

图像掩膜与其类似，用选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。

光学图像处理中,掩模可以是胶片、滤光片等。数字图像处理中,掩模为二维矩阵数组,有时也用多值图像。数字图像处理中,图像掩模主要用于：

提取感兴趣区,用预先制作的感兴趣区掩模与待处理图像相乘,得到感兴趣区图像,感兴趣区内图像值保持不变,而区外图像值都为0。
屏蔽作用,用掩模对图像上某些区域作屏蔽,使其不参加处理或不参加处理参数的计算,或仅对屏蔽区作处理或统计。
结构特征提取,用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩模相似的结构特征。
特殊形状图像的制作。

掩膜是一种图像滤镜的模板，实用掩膜经常处理的是遥感图像。当提取道路或者河流，或者房屋时，通过一个n*n的矩阵来对图像进行像素过滤，然后将我们需要的地物或者标志突出显示出来。这个矩阵就是一种掩膜。

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版权声明：本文为CSDN博主「追蜗牛的coder」的原创文章，遵循 CC 4.0 BY-SA 版权协议，转载请附上原文出处链接及本声明。

原文链接：https://blog.csdn.net/jinxiaonian11/article/details/53467437

本文链接：https://blog.csdn.net/bitcarmanlee/article/details/79132017

1.什么是掩膜?

半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

图像掩膜与其类似，用选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。

2.掩膜的用法

2.1 提取感兴趣区：用预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0； 

 

2.2 屏蔽作用：用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计；

2.3 结构特征提取：用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩膜相似的结构特征；

2.4 特殊形状图像的制作。

3.掩膜运算的一个小实例

以图和掩膜的与运算为例： 

原图中的每个像素和掩膜中的每个对应像素进行与运算。比如1 & 1 = 1；1 & 0 = 0； 

比如一个3 * 3的图像与3 * 3的掩膜进行运算，得到的结果图像就是： 



 

 

4.小结

1.图像中，各种位运算，比如与、或、非运算与普通的位运算类似。 

2.如果用一句话总结，掩膜就是两幅图像之间进行的各种位运算操作。

1.什么是掩膜

首先我们从物理的角度来看看mask到底是什么过程。

在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

地理信息中掩膜与其类似，用选定的面要素图形，对处理的要素进行进行遮挡，来控制要素显示的过程。

         

                          处理前                                            处理后

2.ArcGIS 掩膜

ArcGIS 掩膜有三种方式实现。

2.1 掩膜图层

通过高级绘制菜单，对整个图层的进行掩膜。勾选掩膜面和需要处理的图层，都该图层所有的要素都处理。

ILayerMasking lyrMask = map as ILayerMasking;

缺点：不支持注记，对所有要素进行处理。



2.2 制图表达掩膜擦除

该方法需要操作制图表达要素，通过制图表达工具栏的擦除工具，对制图要素的几何进行覆盖。

 



实际上对IRepresentation.shape重新赋值。

缺点：维护比较麻烦，Representation常常需要用在其他地方。

2.3关系表掩膜

通过创建要素之间的关系表。比如水系和水系掩膜面图层两个图层之间关系表，然后在制图表达中制定相应规则。最后在关系表中依次添加需要处理的要素和对应的面ID，则可以逐个处理完。

缺点：维护创建关系表。国家5万地形图更新就采用该方式。逻辑清晰。